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瑞樂百德快速退火爐裝置說明

作者│↟:admin 瀏覽量│↟:872 來源│↟:本站 時間│↟:2022-02-12 16:19:24

資訊摘要│↟:

快速退火爐採用鹵素紅外線燈作為熱源◕↟☁,透過較快的升溫速度將晶圓或材料快速加熱至300°C-1200°C◕↟☁,從而消除晶圓或材料的部分缺陷◕↟☁,提高產品效能↟╃╃╃。快速退火爐採用先進的微電腦控制系統和PID閉環控溫◕↟☁,可達到較高的控溫精度和溫度均勻性◕↟☁,並可根據使用者工藝要求配備真空室或多路氣體↟╃╃╃。快速退火爐主要由

快速退火爐採用鹵素紅外線燈作為熱源◕↟☁,透過較快的升溫速度將晶圓或材料快速加熱至300°C-1200°C◕↟☁,從而消除晶圓或材料的部分缺陷◕↟☁,提高產品效能↟╃╃╃。

  快速退火爐採用先進的微電腦控制系統和PID閉環控溫◕↟☁,可達到較高的控溫精度和溫度均勻性◕↟☁,並可根據使用者工藝要求配備真空室或多路氣體↟╃╃╃。

  快速退火爐主要由真空室│✘•✘₪、加熱室│✘•✘₪、進氣系統│✘•✘₪、真空系統│✘•✘₪、溫控系統│✘•✘₪、風冷系統│✘•✘₪、水冷系統等組成↟╃╃╃。

快速退火爐

  真空室│↟:真空室是快速退火爐的工作空間◕↟☁,晶片在此進行快速熱處理↟╃╃╃。

  加熱室│↟:加熱室採用多顆紅外燈作為加熱元件◕↟☁,以耐高溫合金為框架◕↟☁,以高純石英為主體↟╃╃╃。

  進氣系統│↟:真空室末端有進氣孔◕↟☁,採用精確控制的進氣口◕↟☁,以滿足某些特殊工藝的用氣要求↟╃╃╃。

  真空系統│↟:真空泵與真空腔之間裝有高真空電磁閥◕↟☁,可有效保證腔體的真空度◕↟☁,同時防止氣體迴流汙染腔體內已加工的工件↟╃╃╃。

  溫控系統│↟:溫控系統由溫度感測器│✘•✘₪、溫度控制器│✘•✘₪、電源調節器│✘•✘₪、可程式設計控制器│✘•✘₪、PC機及各種感測器組成↟╃╃╃。

  風冷系統│↟:真空室的冷卻是透過進風系統向腔內充入惰性氣體◕↟☁,以加速熱處理工件的冷卻◕↟☁,達到工藝要求↟╃╃╃。

  水冷系統│↟:水冷系統主要包括真空室│✘•✘₪、加熱室│✘•✘₪、各部件密封圈的冷卻水↟╃╃╃。


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