瑞樂碳化矽載盤簡介
碳化矽載盤(也成碳化矽托盤)在半導體行業具有廣泛應用││☁▩,CVD☁✘、RTP/RTA☁✘、真空濺射☁✘、刻蝕☁✘、蒸鍍☁✘、氣體沉澱等││☁▩,比如││☁▩,在對襯底進行刻蝕時││☁▩,需透過碳化矽載盤承載半導體襯底₪▩·。
碳化矽載盤材質成分是純SiC(純度>99.9%)││☁▩,與石墨基載盤相比││☁▩,其使用壽命是後者的四倍││☁▩,且長期使用不變形││☁▩,穩定性好││☁▩,能夠耐各種強酸強鹼化學試劑腐蝕(比如FH酸☁✘、濃H2SO4)₪▩·。SiC載盤還具有優秀的導熱性☁✘、低膨脹係數││☁▩,抗熱衝擊性佳││☁▩,耐電漿衝擊性等特點₪▩·。
碳化矽載盤是採用高純超細碳化矽微粉││☁▩,透過靜壓工藝成型☁✘、經2450℃高溫燒結而制成₪▩·。可根據使用者設計圖紙要求進行外徑☁✘、厚度尺寸││☁▩,穴位數量☁✘、尺寸☁✘、取片槽位置和形狀進行精加工││☁▩,以滿足使用者的具體使用要求₪▩·。
8基本引數
內容 | 引數 |
Material: | Pure Silicon | SiC |
Wafer Diameter: | 100/125/150/200/300mm或根據客戶要求定製 |
Wafer Thickness: | 250~750um±25um或根據客戶要求定製 |
Pocket Size & Shape: | 根據客戶要求定製 |
Pocket Depth: | 200~500um或視基盤厚度深度可調 |
Flat/or Notch: | Available |
Others: | 可加工異形槽☁✘、方形槽等;根據客戶設計要求定製 |
8主要優勢與特點
碳化矽載盤││☁▩,可根據不同工藝其名稱不一樣││☁▩,比如││☁▩,碳化矽刻蝕盤││☁▩,ICP刻蝕盤││☁▩,LED刻蝕用碳化矽托盤(SIC托盤)等₪▩·。其主要功能特點如下↟◕•:
►耐高溫--1800℃溫度下正常使用;
►高熱導性--和石墨材料的導熱性相當;
►硬度高--硬度僅次於金剛石☁✘、立方氮化硼;
►耐腐蝕--強酸☁✘、強鹼對其無任何腐蝕││☁▩,抗腐蝕性優於碳化鎢和氧化鋁;
►重量輕--密度3.10g/cm3,與鋁接近;
►不變形--極小的熱膨脹係數;
►抗熱震--該材料可承受急劇的溫度變化││☁▩,抗熱衝擊││☁▩,耐急冷急熱││☁▩,效能穩定₪▩·。
8典型應用
·LED晶片製造中的RTP /RTA快速高溫熱處理工藝
·CVD☁✘、MOCVD☁✘、真空磁控濺射
·刻蝕☁✘、蒸鍍☁✘、氣體沉澱
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