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實驗室用快速退火爐可提供準確和可重複的熱控制

作者↟•│◕:admin 瀏覽量↟•│◕:718 來源↟•│◕:本站 時間↟•│◕:2022-03-08 09:31:41

資訊摘要↟•│◕:

實驗室用快速退火爐基於SolarisGUI的PID處理控制器◕✘·,可以儲存程式◕✘·,每個程式多可以支援100個設定步驟◕✘·,並帶有USB2.0介面↟↟☁。包含與MicrosoftWindows作業系統相容的SolarisGUI軟體↟↟☁。使用此軟體◕✘·,可以透過連結到計算機輕鬆地實現程式編輯和資料記錄↟↟☁。實驗室用快速退火爐可以滿足大學◕✘·,研究實驗室和小規模生產的需求◕✘·,它是

 實驗室用快速退火爐基於SolarisGUI的PID處理控制器◕✘·,可以儲存程式◕✘·,每個程式多可以支援100個設定步驟◕✘·,並帶有USB2.0介面↟↟☁。包含與MicrosoftWindows作業系統相容的SolarisGUI軟體↟↟☁。使用此軟體◕✘·,可以透過連結到計算機輕鬆地實現程式編輯和資料記錄↟↟☁。

  實驗室用快速退火爐可以滿足大學◕✘·,研究實驗室和小規模生產的需求◕✘·,它是高度可靠且具有成本效益的↟↟☁。處理腔室採用殼狀設計◕✘·,可以完全進入底板◕✘·,便於基板的裝卸◕✘·,並可以對腔體進行實際清潔↟↟☁。快速的數字PID溫度控制器可在整個溫度範圍內提供準確且可重複的熱控制↟↟☁。
 

  1₪☁▩、處理室↟•│◕:使用不鏽鋼冷室壁技術↟↟☁。

  2₪☁▩、溫度範圍的標準配置↟•│◕:高1250°C↟↟☁。

  3₪☁▩、高溫配置↟•│◕:高1450°C↟↟☁。

  4₪☁▩、溫度控制標準配置↟•│◕:使用熱電偶和高溫計測量溫度↟↟☁。

  5₪☁▩、真空和氣體↟•│◕:使用MFC多可處理5種處理氣體和一種清潔氣體↟↟☁。

  6₪☁▩、計算機控制↟•│◕:完全PC計算機控制◕✘·,每個公式100步◕✘·,完整的資料記錄和處理歷史人機介面設計↟↟☁。

  實驗室用快速退火爐快速熱處理技術(RTP)可用於矽和化合物半導體材料的離子注入◕✘·,消除/啟用雜質◕✘·,矽化物形成◕✘·,歐姆/肖特基接觸製備以及快速氧化/氮化的缺陷消除◕✘·,消除膜應力◕✘·,改善漆膜附著力等方面↟↟☁。該裝置具有良好的長期工作穩定性◕✘·,快速的溫度上升和下降以及緩慢的溫度上升和下降功能◕✘·,因此還可以用於PVD/CVD工藝中各種半導體材料的熱處理↟↟☁。


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