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gan快速退火爐│₪•☁,gan快速退火爐的配置和特點有哪些│·₪₪₪?

作者↟₪↟:admin 瀏覽量↟₪↟:384 來源↟₪↟:本站 時間↟₪↟:2022-09-17 13:41:08

資訊摘要↟₪↟:

GaN快速退火爐使用方便│₪•☁,易於操作│₪•☁,加熱元件採用紅外燈管│₪•☁,加熱速度快│₪•☁,節省時間☁◕₪▩。滑動法蘭簡化了樣品的裝卸過程│₪•☁,操作方便│₪•☁,可快速獲得實驗結果│₪•☁,省去了重複的法蘭安裝過程│₪•☁,減少了爐管安裝造成的損壞☁◕₪▩。那麼你知道它該有怎樣的配置和特點嗎│·₪₪₪?GaN快速退火爐適用於CVD工藝│₪•☁,例如碳化矽塗層│₪•☁,陶瓷基板電導率測試│₪•☁,ZnO

  GaN快速退火爐使用方便│₪•☁,易於操作│₪•☁,加熱元件採用紅外燈管│₪•☁,加熱速度快│₪•☁,節省時間☁◕₪▩。滑動法蘭簡化了樣品的裝卸過程│₪•☁,操作方便│₪•☁,可快速獲得實驗結果│₪•☁,省去了重複的法蘭安裝過程│₪•☁,減少了爐管安裝造成的損壞☁◕₪▩。那麼你知道它該有怎樣的配置和特點嗎│·₪₪₪?
  GaN快速退火爐適用於CVD工藝│₪•☁,例如碳化矽塗層│₪•☁,陶瓷基板電導率測試│₪•☁,ZnO奈米結構的受控生長│₪•☁,陶瓷電容器(MLCC)氣氛燒結和其他實驗☁◕₪▩。此CVD系統配置↟₪↟:1200度開放式真空管式爐(可選單溫度區│₪•☁,雙溫度區)☁◕₪▩。多通道質量流量控制系統│₪•☁,真空系統(可以選擇中真空或高真空)☁◕₪▩。
 

GaAs/GaN用快速退火爐

  1₪•₪·、控制電路採用模糊PID程式控制技術│₪•☁,具有溫度控制精度高│₪•☁,熱慣性低│₪•☁,溫度超調│₪•☁,效能可靠│₪•☁,操作簡單的特點☁◕₪▩。
  2₪•₪·、氣路快速連線法蘭結構採用公司*的智慧財產權設計│₪•☁,提高了操作的便利性☁◕₪▩。
  3₪•₪·、中真空系統具有自動控制真空度上限和下限的功能│₪•☁,高真空系統使用高壓耐衝擊分子泵☁◕₪▩。
  GaN快速退火爐易於操作│₪•☁,加熱元件採用紅外燈管│₪•☁,加熱速度快│₪•☁,節省時間☁◕₪▩。滑動法蘭簡化了樣品的裝卸過程│₪•☁,操作方便☁◕₪▩。實驗結果可以很快獲得│₪•☁,並且省去了重複的方法│₪•☁,藍色的安裝過程減少了由於安裝引起的爐管損壞☁◕₪▩。


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